Мэр Москвы Сергей Собянин сообщил, что компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в России фотолитограф.

"Компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", - написал Собянин в своем телеграм-канале в субботу.

Мэр отметил, что российский фотолитограф создан в партнёрстве с белорусским заводом. Также отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. "Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер - мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром", - добавил Собянин. По его словам, на фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.

Также в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.